Mask Alignment Sistemleri

EVG®610 Yarı Otomatik Mask
Alignment System

Çok düşük bakım ve işletme maliyeti
Çoklu kullanıcı sistemleri

EVG®620 Otomatik Mask
Alignment Sistemi

Yüksek çözünürlüklü üst ve alt mikroskoplar
Otomatik hizalama

HB-LED için EVG®620HBL Tam
Otomatik Mask Alignment Sistemi

Daha kısa işlem süresi için Yüksek Yoğunlukta Uv ışık kaynağı yapılandırması

EVG®620NT Otomatik Mask
Alignment Sistemi

Otomatik bir sistem üzerinde Manuel yüzey doldurma kabiliyeti
ince yada eğri wafer işleme

EVG®6200∞ Otomatik
Mask Alignment Sistemi

Mask Alignment litografi işlemi için simülasyon yazılımı
Mikro kontak baskı

EVG®6200NT Automated
Mask Alignment System

Gelişmiş işlem yetenekleri için Nano Align Paketi
Nanoimprint litografi

IQ Aligner® Otomatik Mask
Alignment Sistemi

300 mm den büyük wafer boyutlarında yüksek otomasyon seviyesi ve edge teknolojisi